據(jù)報(bào)道, 長(zhǎng) 鑫 存儲(chǔ) DDR 5 芯片因生產(chǎn) 良 率 提升,整體供應(yīng)狀況已顯著改善。資料顯示, 長(zhǎng) 鑫 17nm DDR 5 良 率 已 突破 90 %,與三星同代產(chǎn)品92%至93%的 良 率 水平僅差2到3個(gè)百分點(diǎn)。
來(lái)源:芯極速
據(jù)報(bào)道, 長(zhǎng) 鑫 存儲(chǔ) DDR 5 芯片因生產(chǎn) 良 率 提升,整體供應(yīng)狀況已顯著改善。資料顯示, 長(zhǎng) 鑫 17nm DDR 5 良 率 已 突破 90 %,與三星同代產(chǎn)品92%至93%的 良 率 水平僅差2到3個(gè)百分點(diǎn)。
來(lái)源:芯極速
長(zhǎng) 鑫 暫未證實(shí)此傳言,但其官網(wǎng)上已宣布LPDDR 5 系列進(jìn)軍移動(dòng)終端市場(chǎng)。據(jù)韓媒報(bào)道, 長(zhǎng) 鑫 的 DDR 5 良 率 約80%,與韓國(guó)晶圓廠對(duì)手相近,顯示其技術(shù)能力不俗。
來(lái)源:ictimes
報(bào)道稱,目前合肥 長(zhǎng) 鑫 的17nm工藝 DDR 5 內(nèi)存芯片 良 率 已經(jīng)達(dá)到了40%,預(yù)計(jì)在今年二季度試產(chǎn),出樣片給到客戶。雖然目前40%的 良 率 較低,不過(guò)長(zhǎng) 鑫 存儲(chǔ)將會(huì)在接下來(lái)的時(shí)間里持續(xù)改進(jìn) 良 率 。
來(lái)源:百家號(hào)
2022 年, 長(zhǎng) 鑫 存儲(chǔ)邁入 G3 制程量產(chǎn)階段,如今正全力邁向 G4 制程,其 2025 年新增產(chǎn)能將精準(zhǔn)錨定 LPDDR 5 及 DDR 5 市場(chǎng),聚焦服務(wù)器與智能手機(jī)領(lǐng)域。
來(lái)源:萬(wàn)德豐
近日, 長(zhǎng) 鑫 存儲(chǔ)首次公開(kāi)展示了 DDR 5 和LPDDR 5 X兩大產(chǎn)品線的最新產(chǎn)品。
來(lái)源:芯極速
目前, 長(zhǎng) 鑫 存儲(chǔ)生產(chǎn)的HBM及 DDR 5 等產(chǎn)品主要依托傳統(tǒng)工藝制造,在芯片性能與 良 率 方面與三星電子存在顯著差距。
來(lái)源:趙輝
長(zhǎng) 鑫 存儲(chǔ)在2024年成功量產(chǎn) DDR 5 DRAM后,通過(guò)光罩修改優(yōu)化(解決初期寬溫及散熱問(wèn)題)后,2025年下半年平均 良 率 已 突破 80%,接近市場(chǎng)主流規(guī)格標(biāo)準(zhǔn)。
來(lái)源:芯極速
近期盛傳 長(zhǎng) 鑫 存儲(chǔ)量產(chǎn)的 DDR 5 也可能面臨 良 率 問(wèn)題,且在美國(guó)限制下,中國(guó)業(yè)者難以引進(jìn)先進(jìn)設(shè)備,雙方技術(shù)及成本差距可能進(jìn)一步拉大。
來(lái)源:陳超月
然而,中國(guó)HBM技術(shù)仍處于起步階段, 良 率 問(wèn)題可能沖擊 DDR 5 市場(chǎng),引發(fā)價(jià)格亂流。 長(zhǎng) 鑫 存儲(chǔ)等中國(guó)企業(yè)正致力于發(fā)展本土化的HBM產(chǎn)品,但技術(shù)門檻高, 良 率 僅約30~40%。
來(lái)源:ictimes
相比之下, 長(zhǎng) 鑫 科技的營(yíng)收仍主要依賴 DDR 系列產(chǎn)品,在HBM領(lǐng)域仍處于追趕狀態(tài)。未來(lái),如何攻克先進(jìn)封裝、工藝整合及高 良 率 量產(chǎn)等技術(shù)難題,將是其縮小與國(guó)際領(lǐng)先企業(yè)差距、應(yīng)對(duì)下一輪行業(yè)周期考驗(yàn)的關(guān)鍵所在。
來(lái)源:林慧宇